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AUO:AMOLED技术的最新研发进展

作者:  时间:2012-04-17 19:23  来源:电子产品世界

  第22届FINETECH JAPAN于4月11日开幕,在诸多厂商展示最新技术产品的同时,针对显示技术与市场的未来发展趋势展开了探讨。台湾友达Yusin Lin先生介绍了友达在AMOLED技术领域的最新发展情况。

  2000年,友达成立了OLED研发团队,2002年全球率先开发出a-Si AMOLED,2006年全球率先开发出用于手机的AMOLED产品,2009年,开发出2.4?带触控和3D功能的QVGA产品、14?的FHD电视面板、OLED台灯等新产品,2010年开发出14?3D AMOLED产品、3.2?HVGA、3.5?nHD、透视性AMOLED产品、六代线IGZO TFT试产等,2011年开发出32?氧化物TFT OLED电视、257PPI的4.3?qHD产品、4?的柔性AMOLED、6?透视性AMOLED、10.1?HD800的AMOLED产品等。在OLED照明领域,友达也已开发出两种相关产品,发光尺寸达到129mmX129mm,通过RGB混色的方式实现白光,色温分别是3000K和5000K。

  在移动终端应用中,对于显示模块的需求包括:低耗电量、阳光下可读性好、高分辨率、重量小、轻薄、抗摔打等。以4.3?qHD AMOLED在300nits情况下,耗电量将从2012年的370mW降低到2014年的300mW。与触控功能的结合,也将在结构上实现ON-CELL模式,结构更为简化,同时,层数的减少带来了表面反光的减少,显示效果更清晰。

  氧化物TFT将会更多地应用到OLED TV上,与LTPS技术相比,氧化物TFT制造工艺更简单,a-Si工厂更容易转换到生产氧化物TFT,对于8.5代线来说,LTPS设备生产难度很大,而氧化物TFT只需要在CVD/PVD设备追加投资即可。AMOLED要求的低成本、可靠性高、一致性好等,氧化物TFT都能满足,因此,氧化物TFT非常适合电视应用,但在要求薄边的手机应用,LTPS的薄边结构和高电子迁移率更为适合。

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