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| 应用材料公司推出先进的化学机械研磨抛光垫技术 |
| 作者： 时间：2006-12-15 来源:www.edires.net |
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近日，应用材料公司宣布为200mm CMP（化学机械研磨）系统推出创新的Applied DuraPad CMP（化学机械研磨）抛光垫技术 。DuraPad的使用寿命比现有的研磨垫至少延长了30%，有效地增加了机台的有效使用时间，替客户节约了可观的拥有成本。在DuraPad制造过程中采用先进的six-sigma 制造技术保证了研磨垫不同批次之间性能的一致性，从而确保获得良好的CMP研磨效果。
应用材料公司全球服务部总经理兼资深副总裁Manfred Kerschbaum表示：“作为工艺消耗品的研磨垫对于应用材料公司来说是一个新的市场，也是我们同Praxair Electronics公司合作的重要成果。CMP系统最主要的消耗品就是研磨垫。我们感到非常兴奋可以把新的研磨垫技术带给我们的客户，帮助客户显著提高研磨垫的使用寿命、改善机台研磨效果并且降低设备拥有成本。此外，DuraPad与现有的研磨垫在使用上很相似，只需为特定的工艺条件做很小的调整和修改。”
DuraPad的性能之所以能达到高度的一致性，关键在于制造过程中基片的交叉结合和处理工艺。单个研磨垫从基片上以接近净尺寸的大小裁剪出来，然后进行后续处理，保证了良好的垫上均一度和研磨垫之间的一致性。DuraPad还整合了Praxair公司拥有专利的氮气起泡法，该方法优化了研磨垫内的气孔结构，降低了缺陷率并减少了研磨液的使用量。
DuraPad抛光垫是应用材料公司在CMP领域内丰富经验的结晶。应用材料CMP系统的全球装机量已经超过了2000台。DuraPad研磨垫已经在我们主要客户的CMP应用中得到验证。欲了解更多DuraPad CMP研磨垫的信息，请访问http://www.appliedmaterials.com/products/spares_products.html
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