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CMP设备控制软件的模块规划及可视化技术
1 引言 随着硅片直径的不断增大和图形线宽的急剧缩小,IC加工工艺对硅片的平整度要求越来越高。化学机械抛光(Chemical Mechanical Pol...
CMP
设备控制软件
模块规划
可视化技术
2009-06-07
Entrepix扩大在亚洲的CMP服务
Entrepix, Inc., a leading provider of equipment and services to the mainstream, ...
CMP
2009-05-05
Entrepix扩大CMP服务
Entrepix, Inc., a leading provider of equipment and services to the mainst...
CMP
2009-04-01
SVTC宣布在300 mm化学机械研磨(CMP)与Entrepix合作
SVTC技术公司今天宣布将与Entrepix合作,这项合作将提供SVTC使用徳州德克萨斯晶圆场Tool Access Program (TAP)客户所需的所有3...
SVTC
CMP
2009-02-04
罗门哈斯公司大力拉动市场需求
罗门哈斯电子材料公司(Rohm and Haas Electronic Materials,纽约证券交易所:ROH)旗下的研磨技术事业部(CMP Technol...
CMP
罗门哈斯
2008-09-16
罗门哈斯公司增加在中国台湾地区的投资扩建亚太区制造厂
向全球半导体行业提供化学机械研磨 (CMP) 技术的领先者和创新者罗门哈斯电子材料公司(纽约证券交易所:ROH)旗下研磨技术(CMP Technologies)...
CMP
2008-08-01
罗门哈斯公司增加在台湾的投资, 扩建亚太区制造厂
向全球半导体行业提供化学机械研磨 (CMP) 技术的领先者和创新者罗门哈斯电子材料公司(纽约证券交易所:ROH)旗下研磨技术(CMP Technologies)...
CMP
VisionPad™
IC1000™ AT
2008-07-30
罗门哈斯开设亚洲技术中心
面向全球半导体行业的化学机械研磨 (CMP) 技术领导和创新者罗门哈斯电子材料公司 (Rohm and Haas Electronic Materials) (...
CMP
化学机械
ATC
2008-07-23
罗门哈斯开设亚洲技术中心,为尖端 CMP 应用提供支持
面向全球半导体行业的化学机械研磨 (CMP) 技术领导和创新者罗门哈斯电子材料公司 (Rohm and Haas Electronic Materials) (...
CMP
2008-07-14
ST通过CMP为中国高校提供先进CMOS工艺
半导体产业世界领先企业意法半导体(纽约证券交易所代码:STM)和世界知名的IC中介服务公司CMP(Circuits Multi Projects®)宣布两家公司...
st
CMP
CMOS
2008-06-06
罗门哈斯凭借减少耗浆量的槽沟新设计使钨 CMP 耗材成本降低20%
面向全球半导体行业的化学机械抛光 (CMP) 技术领导和创新的罗门哈斯电子材料公司 (Rohm and Haas Electronic Materials) (...
CMP
总耗材成本降低
耗浆量
2008-04-24
多核处理器的九大关键技术
与单核处理器相比,多核处理器在体系结构、软件、功耗和安全性设计等方面面临着巨大的挑战,但也蕴含着巨大的潜能。 CMP和SMT一样,致力于发掘计算的粗粒度并行...
多核处理器
SMP结构
CMP
2007-06-25
Synopsys推出IC COMPILER2007.03版
全球领先的电子设计自动化(EDA)软件工具领导厂商 Synopsys 发布了下一代布局布线解决方案——IC Complier 2007....
IC Compiler
MCMM
CMP
2007-04-19
1
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