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单片型3D芯片集成技术与TSV的意义与区别简述
尽管晶体管的延迟时间会随着晶体管沟道长度尺寸的缩小而缩短,但与此同时互联电路部分的延迟则会提升。举例而言,90nm制程晶体管的延迟时间大约在 1.6ps左右...
TSV
穿硅互联技术
2011-05-26
IC封装产业将在后摩尔定律时代大放异彩
水清木华研究中心日前发布研究报告指出,半导体业现在处于32nm制程时代,预估到2019年左右会进入16nm制程。设计一款45纳米SoC非人工花费达2,000-5...
摩尔定律
封装
TSV
2009-10-28
尔必达开发出由TSV层叠8层1Gbit DRAM芯片的器件
尔必达内存宣布,该公司开发出了由TSV(硅通孔)层叠8层1Gbit DRAM芯片的器件。电极材料由当初的多晶硅改为低电阻的铜(Cu),从而可降低服务器用高速DR...
尔必达
TSV
DRAM
2009-09-21
MEMS设备市场规模2012年可望达到5亿美元
法国的市场研究机构Yole Development预期,明年MEMS设备产业表现将持平,不过在惯性MEMS组件、RF开关、能量采集与微反射镜(micromirr...
MEMS
RF开关
能量采集
TSV
2009-07-24
SEMI发布3D集成技术发展白皮书
SEMI发布了一份白皮书,关于3D IC集成技术的快速发展,包括穿透硅通孔(TSV)技术发展概况,题为“3D Integration: An Ind...
SEMI
3D
TSV
2009-07-10
从移动设备和汽车应用 看2009年晶圆封装趋势
专家认为,受持续增长的移动设备和汽车应用需求的驱动,晶圆级封装(WLP)将向I/O数更高和引脚节距更小的方向发展。2009年其他需要关注的WLP趋...
晶圆
封装
WLP
TSV
2009-03-19
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