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世伟洛克半导体服务公司推出全新原子层沉积(ALD)工艺用阀

作者:eaw  时间:2005-09-16 16:53  来源:本站原创

世伟洛克半导体服务公司(SSSC)向半导体产业推出一款全新的阀产品。目前在世伟洛克公司的独立销售网络和服务中心均有销售的Swagelok? ALD系列阀是应用于原子层沉积(ALD)工艺的超高纯度气动阀。ALD技术是半导体产业的一项新兴沉积技术。

原子层沉积工艺是半导体处理技术中发展速度最快的一个领域,为了达到它的严格要求,世伟洛克的ALD系列阀具备了以下优势:该阀的制动速度极快,制动时间不超过5毫秒;它有极高的循环寿命-在产品评估时循环次数超过了25,000,000。我们正在申请专利的流量设定功能能够保证制程气体输送的一致性。采用316L VIM/VAR不锈钢材料制成,阀体带1/4英寸VCR?,以及1/4英寸和6毫米的对焊管接头。可供选择的产品包括一款高温型,它最高可适用于200摄氏度的温度,还有多门、多路阀以及模块化表面安装型等各种配置。

世伟洛克半导体服务公司的总部位于美国加利福尼亚州的圣克拉拉,其制造设施与分销机构则位于俄亥俄州的克利夫兰附近。世伟洛克半导体服务公司是世伟洛克公司的一个战略性业务部,致力于为全球的半导体制造产业开发与制造流体系统组件技术。

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