中芯国际和新思科技发布设计参考流程 2.0

新思科技公司宣布已经和中芯国际共同开发出了基于 0.13?m工艺的设计参考流程2.0。该流程基于新思科技的Galaxy设计平台和中芯国际先进的0.13 微米工艺，不仅解决了在0.13?m工艺设计中遇到的深亚微米设计挑战，并且缩短了产品上市时间和良率达成时间。特别是，该方案的电源网络综合与电源网络分析能力使得在布局阶段就可进行电源规划设计，从而将大大缩短完成复杂IC及系统设计的时间。