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“建立一个混合信号设计环境,通常很耗时并且需要大量工作量,” Mentor Graphics公司VP与亚微米(DSM) 部门总经理Jue-Hsien Chern说,“Mentor致力于为客户提供TDK以简化并加速这个流程,所以我们很高兴和中芯国际一起,共同支持中芯国际的主流技术0.18µm工艺。”
“我们的0.18µm工艺,结合Mentor的最优秀的混合信号集成电路设计流程, 可以符合客户最苛刻的设计与制造需求,” 中芯国际设计服务部门的Fellow, Paul Ouyang称,“我们的客户可以为他们的设计,通过这个设计组件提供的迅速而可靠的成功流片的途径,享受到改善的可预测性以及效率。”
客户验证组件
中芯国际的客户已经从这个设计组件中受益,包括高端显示技术市场领先的SOC IC提供者Pixelworks。“Mentor/SMIC TDK帮助我们节约了大量时间,使我们能够达到我们的目标并迅速占有市场。” Pixelworks的VP、Fellow,Mike West称。 “使用这个TDK,我们可以在很短的时间内完成一个新的设计。此外,TDK工艺厂验证的参数化器件产生器与IC Station的LDL (Logic-Driven Layout) Cockpit,使得我们的设计从原先的工艺技术到新的SMIC 0.18µm工艺的转变非常容易。”
新的设计组件包括中芯国际支持的SPICE仿真器EldoTM 的模型以及Calibre® DRC、LVS 和Extraction的技术文档。同时也包括原理图输入工具Design Architect®-IC的Schematic Symbols,版图编辑工具IC Station®的可编程器件产生器,工艺定义文件,以及所有其它为有效实现Mentor Graphics的完整AMS IC设计流程所需要的配置文件。
获取
TDK已经经过验证并发布,如需得发布版本,可以访问Mentor Graphics网站或者通过 Design_Services@smics.com与中芯国际联系。