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美国模拟器件(ADI)公司近期发布了新的iPOLAR沟道隔离制造工艺并且推出 一批取得重大突破的放大器。该创新工艺采用一种深沟道技术,显著地提高了晶体管的密度和性能。而采用这一创新工艺的、工作电压高达±18 V的放大器产品,比传统的双极型放大器显著提高了性能,同时封装尺寸减小75%,功耗降低了50%。非常适合于工业和仪器仪表等应用。www.analog.com