半导体设备特别是光刻机技术难度很大，它对整个国家的工业基础要求非常高，对国家创新能力及技术水平的提高作用很大，因此国家发展半导体设备装备产业的决策非常正确。
但是，由于不同的设备制造难度、自身特点及市场规律不同，会存在不同的发展策略和思路，因此做法上不能千篇一律。每个公司的发展策略不同，我们现在强调的是，第一不能做假，第二要勇于创新。我们想建一座高楼大厦，隐蔽工程也就是地基要做得很扎实，只有地基深厚，微电子设备产业的大厦才能建得更高。
发展半导体设备产业，应发展重点产品，不该面面俱到。尽管如此，只要有条件，前道后道设备国内企业都应该做，这是不矛盾的。前道和后道设备特性不一样，应该由不同的设备厂商去突破，在时间上可以同时进行，也可以交叉。我们不是从单一的设备谈起，而是纵览整个半导体设备产业的全局，所以要按一定规律布点，如果产品做得过于单一，氛围、气候和规模效应就会差一些。
众所周知，目前中国是全球IC产业发展最快的国家，因此对集成电路设备的需求与日俱增，可以说，国内半导体设备产业的市场前景很广阔。但由于设备是一个技术门槛很高、用户要求很苛刻的产业，因此要真正打造一个精品还要走很长、很艰辛的路，但往往越是艰难的路，越是有价值的路。
我们公司一直坚持以下几个方面：第一，坚持创新的方向与开放的心态相结合。我们非常鼓励自主创新，这种创新又很开放，会和国内外优质资源进行很好地融合与合作。
第二，从研究工作开始，就以面向市场作成产品为目标。光刻机这种关键设备进入大生产线要有一个很漫长的考核、使用、优化设计过程，用户对设备厂商的态度是一视同仁的，当你还是一个婴儿的时候，对用户来讲，他也会把你当成成人看待。这个过程不能要求婴儿本身变成一个成人，只能要求环境更宽容，为他创造更好的条件，让婴儿尽快长大成人，这是政府和行业主管部门要做的。对设备业给予政策和资金上的支持，再加上用户对国内设备厂商的支持，国内半导体设备产业的发展壮大便指日可待了。