首页 » 业界动态 » EDWARDS发布IXL120 面向真空半导体工艺应用

EDWARDS发布IXL120 面向真空半导体工艺应用

作者:  时间:2010-07-09 09:16  来源:电子产品世界

  全球领先的真空设备供应商Edwards近日发布iXL120设备,拓展了其面向半导体制造工艺的干泵设备产品。iXL120具有专为负载时钟和其他清洗应用的设计,在同等产品中可达到最快速的抽取速度,同时还具有低能耗、高吞吐量的特点,降低拥有者成本。

相关推荐

芯片国产化对于信息安全的意义不亚于去ioe

IC设计  半导体制造  2013-11-20

16/14nm半导体工艺将在三年后全面兴起

14nm  半导体工艺  2013-10-25

2013年全球半导体制造设备支出将下滑8.5%

半导体制造  晶圆制造  2013-09-26

14nm是全球半导体工艺的一个“坎”?

14nm  半导体工艺  2013-08-20

半导体制造商关注300mm模拟晶圆厂发展

半导体制造  晶圆  2013-07-31

日本5月份半导体BB值向上扬升至1.17 订单额突破千亿日圆

在线研讨会
焦点