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EDWARDS发布IXL120 面向真空半导体工艺应用
全球领先的真空设备供应商Edwards近日发布iXL120设备,拓展了其面向半导体制造工艺的干泵设备产品。iXL120具有专为负载时钟和其他清洗应用的设计,...
半导体制造
半导体工艺
2010-07-09
GlobalFoundries宣布开发20nm工艺 与22nm共存
GlobalFoundries近日宣布将会开发20nm半导体制造工艺,但与台积电不同,新工艺将与 22nm共存,而且GF认为这种半代工艺并不会消失。 ...
GlobalFoundries
20纳米
半导体制造
2010-04-27
SEMI发布半导体制造5项新标准
SEMI日前发布五项新的半导体制造技术标准。这些标准由来自设备与材料供应商、器件制造商以及其他参与SEMI国际标准项目厂商的技术专家们开发制定,可通过购买C...
SEMI
半导体制造
标准
2008-10-09
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