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应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM
应用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系统,进一步推升在缺陷检测扫描电子显微镜 (Scanning Electronic Micros...
应用材料
20nm制程
2011-12-19
台积电20nm制程将支持双重成像技术
据台积电公司设计技术高级主管Ed Wan表示,台积电20nm制程自动化设计系统将可支持双重成像技术(double patterning)。相关的电路自动化布...
台积电
20nm制程
2011-04-15
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