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FSI国际宣布在硅化物形成步骤中的金属剥离技术取得突破
FSI 国际有限公司宣布已成功地采用FSI ViPR™技术在自对准多晶硅化物形成后去除了未反应的金属薄膜。通过实现这一新的工艺,IC制造商可以在钴、...
FSI
硅化物
逻辑器件
2007-12-24
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