TI SmartReflex技术攻坚 65nm 漏电功耗壁垒

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TI SmartReflex技术攻坚 65nm 漏电功耗壁垒

作者：eaw 时间：2005-12-04 20:22 来源：本站原创

德州仪器(TI)公司宣布通过其创新SmartReflex电源与性能管理技术，解决了移动设备面临的 65nm 漏电功耗难题，该技术集成了从集成电路设计到系统软件的系统级方法，能够根据设备的活动、工作模式以及不同的工艺与温度，动态地控制电压、频率及电源，从而使 OEM 厂商能够为更小巧精致的多媒体移动设备提供更长的电池使用寿命以及更少的散热量。www.ti.com

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