SUSS MicroTec，全球知名的半导体行业及相关市场的设备和工艺解决方案提供商，日前宣布，与位于北美的康奈尔大学纳米科学和技术设备(CNF)中心展开战略性合作。康奈尔大学的人员将使用包括加强型接触式光刻机和Gamma喷胶机在内的SUSS设备进行研发工作。
CNF中心的研发设施，每年可供700人次使用，并将同时作为SUSS MicroTec的工艺研发和样片测试的辅助实验室。新设备预计将在2011年前期向用户开放。
即将在CNF中心安装的光刻设备SUSS MA/BA6，配有两个特别组件：基底完整压印光刻(SCIL)和MO曝光光学系统。SCIL是SUSS MicroTec和飞利浦公司共同研发的一项技术，使用全尺寸压印模板，可低成本地实现10纳米甚至更小的结构，并具有高度可重复性。MO曝光光学系统，是由SUSS MicroTec的子公司SUSS MicrOptics研发的专利技术。这种独特的光学技术可提高传统光刻工艺的性能。Gamma涂胶一体机将被用于CNF中心所有光刻胶相关工艺。该设备可实现显影、烘烤和涂胶，并包含用于高深宽比结构的各类喷胶模块。
康奈尔大学CNF中心负责人Don Tennant先生说：“SUSS MicroTec制造的Gamma系统将为CNF中心带来我们所需的高性能涂胶、烘烤和显影能力。它的稳定性、工艺结果的可重复性和灵活性，都很适合我们用户的需要。同时，我们还将能体验SUSS的Gamma和MA/BA6平台带给我们的新技术。我们很期待看到这些新技术将为我们的用户带来多大的进步。”
“我们十分高兴能与CNF中心这样知名的纳米技术机构合作。”，SUSS MicroTec公司总裁兼首席执行官Frank Averdung先生说，“我们希望使用CNF中心最先进的设备研发我们的技术。我们很乐意能为我们北美的客户提供这个机会，使他们可以在如此良好的条件下建立和测试他们的工艺。”