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海力士半导体工厂蒸镀设备气体外泄

作者:  时间:2011-05-25 19:30  来源:电子产品世界

  据韩国电子新闻报导,韩国半导体大厂海力士(Hynix)位于京畿道利川的工厂发生气体外泄事故。19日晚间约1050分,在维修DRAM半导体产线蒸镀设备过程中,海力士合作厂2位员工因操作不当,使设备内残留的液化气体外泄。

  外泄的液化气体含有阿摩尼亚成分,厂内产生恶臭,正在进行作业中的海力士员工及合作厂员工约120多人紧急送往邻近医院,接受治疗后已平安返家,未传出人员伤亡。本次事故对工厂生产未造成影响。

  韩国媒体23日晚间访问海力士社长权五铉,他表示气体外泄虽造成工厂生产暂停等情况,但内部已马上应变处理,目前没有任何影响,工厂仍正常生产中。此外,他也表示,外泄的气体虽含有阿摩尼亚成分,但对人体没有太大伤害。发生事件当时,距离事故现场最近的两位员工接受医院检查后也已无事返家,没有人员伤亡。

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