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>电子束
22纳米后EUV光刻还是电子束光刻?市场看法存分歧
浸润式微显影双重曝光能进一步延伸摩尔定律的寿命至32纳米,不过,22纳米以下究竟哪种技术得以出头,争议不断。据了解,台积电目前正积极研发22纳米以下直写式多重电...
EUV
电子束
光刻
2007-10-09
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