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Molecular Imprints 将为半导体大批量制造提供先进光刻设备

　Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高分辨率与低拥有成本纳米图案成形系统和解决方案的技术领导商。MII 将利用其创新的 Jet a...

半导体光刻 2012-09-25

SUSS MicroTec收购Tamarack Scientific公司

　　SUSS MicroTec，宣布收购位于美国加州科罗娜的Tamarack Scientific公司。两家公司已经签署相应的收购协议。协议约定，SUSS Mi...

Tamarack 光刻 2012-04-11

李长春在吉林华微调研时称模拟器件行业很有前途

　　2011年8月26日，中共中央政治局常委李长春来华微电子调研。18时45分，中共中央政治局常委李长春一行来到华微电子六英寸新型功率半导体器件生产线(即芯片四...

华微模拟器件光刻 2011-09-07

2011韩国半导体光刻胶需求预计达2.58亿美元

　　在半导体制程中，曝光制程非常重要，因此作为其核心材料的光刻胶(Photoresist)占较大的生产成本，在技术与产业方面的重要性也非常高。根据Display...

半导体光刻 LCD 2011-08-31

DRAM成本削减及节省步伐从2012年开始将放缓

　　据IHS iSuppli公司的研究，随着DRAM市场过渡到效率更高的低纳米技术，该产业的成本削减及节省步伐从2012年开始将放缓。　　虽然最近几个季度D...

DRAM 光刻 2011-07-11

MIT研究显示电子束光刻可达9纳米精度

　　美国麻省理工学院(MIT)的研究人员日前发表的一项研究成果显示，电子束“光刻”精度可以小到9纳米的范围，刷新了以前一项精度为25纳米...

光刻 EUV 2011-07-06

芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析

　　台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfound...

芯片制造光刻 2011-03-03

HamaTech接到几十份MaskTrack Pro设备订单

　　SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到几十份MaskTrack Pro设备...

HamaTech 光刻 2010-12-24

Sokudo早餐会上论光刻技术趋势

　　在SEMICON West举行的Sokudo光刻论坛上对于实现22nm的各类光刻技术的进展、挑战与未来市场前景进行了热烈的讨论。　　作为193nm光刻技...

ASML 22nm 光刻 2010-07-20

美科学家设计出简便快速的纳米电线制造方法

　　美科学家设计出简便快速的纳米电线制造方法，只需加热即可将氧化石墨烯转为导电物质　　据美国物理学家组织网6月10日报道，美国一联合研究小组称，他们在利用石...

纳米光刻 2010-06-17

Intel展示新材料极紫外光刻走向实用

　　新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年，仍然未能投入实用...

Intel 光刻 2010-06-17

SUSS MicroTec推出面向LED市场的专用光刻系统

　　SUSS MicroTec，全球知名的半导体行业及相关设备和工艺解决方案供应商，推出新一代MA100e光刻机，专用于高亮度发光二极管(HB-LEDs)生产。...

LED 光刻 2010-06-10

基于功率MOSFET设计考量

　　用作功率开关的MOSFET 　　随着数十年来器件设计的不断优化，功率MOSFET晶体管带来了新的电路拓扑和电源效率的提升。功率器件从电流驱动变为电压驱动，...

功率开关 MOSFET 光刻 2010-06-01

新型高科技芯片有望使海水变成淡水

　　[导读]将海水变为人类可以饮用的淡水一直是一个吃力不讨好的差事，它耗能大、水质又差，现在MIT的科学家们制造的芯片可以更好地完成这个工作。　　虽然地球表...

芯片光刻腐蚀 2010-05-07

IMEC让前TSMC欧洲总裁来加强IC业务

　　欧洲半导体研究所IMEC已任命前TSMC欧洲总裁Kees den Otter为其副总裁, 掌管其IC市场发展。　　可能原因是出自研究所要更多的为工业化服...

IMEC 光刻 CMOS 2010-05-07

未来三年内存价格将持续攀升

　　DRAMeXchange传来噩耗称内存芯片的价格在未来三年内将持续走高。这家市场分析公司将内存产业的兴衰周期定为3年左右，据该公司的分析师表示，2001-2...

ASML 光刻内存芯片 2010-04-16

22纳米后EUV光刻还是电子束光刻？市场看法存分歧

浸润式微显影双重曝光能进一步延伸摩尔定律的寿命至32纳米，不过，22纳米以下究竟哪种技术得以出头，争议不断。据了解，台积电目前正积极研发22纳米以下直写式多重电...

EUV 电子束光刻 2007-10-09

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