euv

　　据美国科技博客Business Insider报道，在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩...

EUV 摩尔定律 2013-11-06

　　极紫外光(EUV)微影技术将于2015年突破量产瓶颈。传统浸润式微影技术在半导体制程迈入1x奈米节点后将面临物理极限，遂使EUV成为产业明日之星。设备供应商...

ASML EUV 2013-08-20

　　5月7日消息，全球代工市场规模继2011年增长7%，达328亿美元之后，2012年再度增长16%，达到393亿美元，预计2013年还将有14%的增长。　...

半导体代工 EUV 2013-05-17

　　IMEC宣布，成功利用ASML的EUV(extreme ultraviolet)曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子...

EUV 晶圆 2011-07-20

　　美国麻省理工学院(MIT)的研究人员日前发表的一项研究成果显示，电子束“光刻”精度可以小到9纳米的范围，刷新了以前一项精度为25纳米...

光刻 EUV 2011-07-06

　　GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光...

GlobalFoundries EUV 2011-06-22

　　当半导体业准备进入14/15nm节点时，将面临众多的技术挑战　　对于逻辑电路，STMicro的Thomas Skotnicki认为传统的CMOS制造工艺...

EUV 节点技术 2011-03-07

　　目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现，而身为深紫外光 (EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出...

微影技术 EUV 2010-10-26

　　继晶圆代工大厂台积电宣布跨入深紫外光(EUV)微影技术后，全球晶圆(Global Foundries)也在美国时间14日于SEMICON West展会中宣布...

台积电 EUV 晶圆代工 2010-07-20

IMEC在SEMICON West上宣布,建立太阳能、GaN和EUV方面独立的新项目。在太阳能项目中，IMEC已经与太阳能设备和材料供应商建立了新的合作...

IMEC 太阳能 GaN EUV 2009-07-17

浸润式微显影双重曝光能进一步延伸摩尔定律的寿命至32纳米，不过，22纳米以下究竟哪种技术得以出头，争议不断。据了解，台积电目前正积极研发22纳米以下直写式多重电...

EUV 电子束光刻 2007-10-09

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