Imec发布EUV掩膜缺陷评估方面的成果

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作者：时间：2011-04-21 09:49 来源：电子产品世界

　　Imec联合合作伙伴发布两份EUV掩膜评估结果，结果显示EUV供应商须在检测掩膜缺陷能力方面进行改善。并与Zeiss SMS合作通过实验演示了一项消除缺陷的补偿技术。

Imec EUV掩膜

　　欧洲微电子研究机构IMEC(比利时鲁汶)日前宣布，已发布了一个早期版本的逻辑工艺开发套件(PDK)，这是业界第一款用以解决14纳米节点逻辑工艺的开发工具包，IMEC表示。　　该套件支持多种有可能在14纳米节点应用

IMEC 测试芯片 2012-03-12

　　IMEC宣布成功研发出世界上第一个300毫米晶圆相容的定向自组装(DSA)的工艺生产线。与美国威斯康星大学，安智电子材料和东京电子IMEC的DSA合作目的，以解决关键的障碍，实现从学术DSA合作实验室规模到大批量制造

IMEC 晶圆 2012-02-14

　　近日，Holst中心和IMEC推出其下一代的柔性OLED(有机发光二极管)显示器的新研究方案，基于其成熟的技术跟踪记录，并在相关领域如有机氧化物晶体管和柔性OLED照明等现有合作研究中伙伴的良好基础，新方案的主要目标

IMEC OLED 2012-01-19

　　日本KANEKA与比利时IMEC近日宣布，共同开发出了集电极材料采用铜(Cu)而非银(Ag)的6英寸(约15cm)见方异质结硅太阳能电池，获得了21%以上的转换效率。　　异质结硅太阳能电池是指pn结由微晶硅和结晶

IMEC 太阳能电池 2011-12-12

Imec EUV掩膜 2011-04-21

　　领先的MEMS设计供应商Coventor和纳电子研究中心imec共同宣布战略合作，以改善和拓展CMOS和MEMS集成技术的设计与制造。合作将包括双方研发路线的统一，及研究内容的互补。双方将共同为imec的SiGe M

imec MEMS 2011-02-10

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