可程序逻辑闸阵列(FPGA)大厂赛灵思(Xilinx)9日宣布，已经开始在台积电投片业界首款20纳米可编程逻辑元件(PLD)，以及业界首款20纳米全编程(AllProgrammable)元件。业界指出，赛灵思宣布进入20纳米世代，代表台积电20纳米已提前一季进入投片阶段。
台积电20纳米已经研发完成，正在积极建置20纳米生产线，包括竹科超大型晶圆厂(GigaFab)Fab12第6期，以及南科Fab14第5期及第6期。台积电原本预计今年第4季才会开始投片，明年首季进入量产阶段，但赛灵思提前在第3季宣布20纳米芯片开始投片，代表台积电20纳米投产进度已较原本规画提前一季进行。
赛灵思宣布，20纳米PLD芯片及全编程元件已经开始在台积电投片，同时，赛灵思亦着手建置业界第一个特殊应用芯片(ASIC)等级可编程架构UltraScale，将由28纳米快速转进20纳米世代。同时，最新开发的UltraScale架构可将20纳米平面制程，扩展至16纳米及更先进的鳍式场效晶体管(FinFET)技术，并可从单芯片进展到3DIC。
业界人士认为，在赛灵思的协力合作下，台积电今年底应该可开始进行16纳米试产，成功将20纳米微缩至16纳米的时间提前一年，亦即2015年就会如期进入16纳米FinFET量产，台积电与英特尔间技术时间差距，将因此缩短到1年，如此一来就不必再怕英特尔抢单。