SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产，是用于下一代光刻领域的完整掩膜流程平台。
对于亚22nm 193nm浸没式光刻、EUVL深紫外光刻、NIL接触式纳米压印技术等先进光刻工艺的掩膜版，MaskTrack Pro是目前已知唯一可以实现清洗、烘烤和显影步骤的设备。MaskTrack Pro结合物理和化学清洗技术，能有效去除有机和无机污染物，而不破坏易受损的掩膜版线条和材料结构。MaskTrack Pro使用独特的ASonic®专利显影技术，以及先进的曝光后烘烤方式，能几近完美地实现关键尺寸的一致性，这对于亚22nm双重图形技术尤为重要，可以沉着应对未来先进光刻技术的挑战。
“下一代光刻技术发展，促使MaskTrack Pro的市场加速发展。2011年初，MaskTrack Pro将被诸多全球领先的公司采用。”，HamaTech首席执行官Wilma Koolen-Hermkens介绍道，“我们十分高兴地看到，多家客户已经采购了我们的设备。我们希望MaskTrack Pro能成为业界的标准配置设备。”
“实现掩膜版完整流程是MaskTrack Pro平台设计的中心思想，对先进光刻技术起到了重要作用。” SUSS MicroTec的总裁监首席执行官Frank Averdung说，“感谢我们的客户和合作伙伴的共同努力，我们研发出了MaskTrack Pro系统，以迎接下一代光刻技术完整掩膜流程的苛刻挑战。”