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EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律

　　据美国科技博客Business Insider报道，在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩...

EUV 摩尔定律 2013-11-06

ASML：量产型EUV机台2015年就位

　　极紫外光(EUV)微影技术将于2015年突破量产瓶颈。传统浸润式微影技术在半导体制程迈入1x奈米节点后将面临物理极限，遂使EUV成为产业明日之星。设备供应商...

ASML EUV 2013-08-20

全球半导体代工业正孕育恶战

　　5月7日消息，全球代工市场规模继2011年增长7%，达328亿美元之后，2012年再度增长16%，达到393亿美元，预计2013年还将有14%的增长。　...

半导体代工 EUV 2013-05-17

Molecular Imprints 将为半导体大批量制造提供先进光刻设备

　Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高分辨率与低拥有成本纳米图案成形系统和解决方案的技术领导商。MII 将利用其创新的 Jet a...

半导体光刻 2012-09-25

SUSS MicroTec收购Tamarack Scientific公司

　　SUSS MicroTec，宣布收购位于美国加州科罗娜的Tamarack Scientific公司。两家公司已经签署相应的收购协议。协议约定，SUSS Mi...

Tamarack 光刻 2012-04-11

李长春在吉林华微调研时称模拟器件行业很有前途

　　2011年8月26日，中共中央政治局常委李长春来华微电子调研。18时45分，中共中央政治局常委李长春一行来到华微电子六英寸新型功率半导体器件生产线(即芯片四...

华微模拟器件光刻 2011-09-07

2011韩国半导体光刻胶需求预计达2.58亿美元

　　在半导体制程中，曝光制程非常重要，因此作为其核心材料的光刻胶(Photoresist)占较大的生产成本，在技术与产业方面的重要性也非常高。根据Display...

半导体光刻 LCD 2011-08-31

IMEC用EUV曝光装置成功曝光晶圆

　　IMEC宣布，成功利用ASML的EUV(extreme ultraviolet)曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子...

EUV 晶圆 2011-07-20

DRAM成本削减及节省步伐从2012年开始将放缓

　　据IHS iSuppli公司的研究，随着DRAM市场过渡到效率更高的低纳米技术，该产业的成本削减及节省步伐从2012年开始将放缓。　　虽然最近几个季度D...

DRAM 光刻 2011-07-11

MIT研究显示电子束光刻可达9纳米精度

　　美国麻省理工学院(MIT)的研究人员日前发表的一项研究成果显示，电子束“光刻”精度可以小到9纳米的范围，刷新了以前一项精度为25纳米...

光刻 EUV 2011-07-06

光源问题仍是EUV光刻技术中的难题

　　GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光...

GlobalFoundries EUV 2011-06-22

通向14/15nm节点的技术挑战

　　当半导体业准备进入14/15nm节点时，将面临众多的技术挑战　　对于逻辑电路，STMicro的Thomas Skotnicki认为传统的CMOS制造工艺...

EUV 节点技术 2011-03-07

芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析

　　台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfound...

芯片制造光刻 2011-03-03

HamaTech接到几十份MaskTrack Pro设备订单

　　SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到几十份MaskTrack Pro设备...

HamaTech 光刻 2010-12-24

次世代微影技术主流之争

　　目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现，而身为深紫外光 (EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出...

微影技术 EUV 2010-10-26

Sokudo早餐会上论光刻技术趋势

　　在SEMICON West举行的Sokudo光刻论坛上对于实现22nm的各类光刻技术的进展、挑战与未来市场前景进行了热烈的讨论。　　作为193nm光刻技...

ASML 22nm 光刻 2010-07-20

GlobalFoundries投入EUV技术　4年后量产

　　继晶圆代工大厂台积电宣布跨入深紫外光(EUV)微影技术后，全球晶圆(Global Foundries)也在美国时间14日于SEMICON West展会中宣布...

台积电 EUV 晶圆代工 2010-07-20

美科学家设计出简便快速的纳米电线制造方法

　　美科学家设计出简便快速的纳米电线制造方法，只需加热即可将氧化石墨烯转为导电物质　　据美国物理学家组织网6月10日报道，美国一联合研究小组称，他们在利用石...

纳米光刻 2010-06-17

Intel展示新材料极紫外光刻走向实用

　　新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年，仍然未能投入实用...

Intel 光刻 2010-06-17

SUSS MicroTec推出面向LED市场的专用光刻系统

　　SUSS MicroTec，全球知名的半导体行业及相关设备和工艺解决方案供应商，推出新一代MA100e光刻机，专用于高亮度发光二极管(HB-LEDs)生产。...

LED 光刻 2010-06-10

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